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全自動晶片超聲波清洗機用于清洗石英晶片、夾具、硅片、藍(lán)寶石片、光學(xué)晶片等器件，環(huán)形結(jié)構(gòu)設(shè)計，全自動流程，采用觸摸屏PLC控制，操作簡便，可以節(jié)省大量人力，節(jié)約成本，給企業(yè)帶來可觀的效益。 主要特點： 采用進(jìn)口元器件，如：三菱、臺達(dá)、西門子等品牌。 主要功能：超聲波清洗機、加熱溫控、時間控制、循環(huán)過濾、變頻調(diào)速等。 超聲波頻率采用多種頻率：如：28KHz，40KHz，150KHz。

LC半自動超聲波清洗機本機是仿日本晶片清洗機，在原來的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)、設(shè)計，功能多，但易操作，主要用于清洗晶片、硅片、五金小件、光學(xué)玻璃、光學(xué)鏡片等。

外延片（硅片）腐蝕清洗機手動方式實現(xiàn)放件，取件，槽體間傳送件；腐蝕工藝自動補藥液，保證了工藝槽在運行過程中濃度的穩(wěn)定性。

半自動超聲波清洗機本機主要適用于藍(lán)寶石片、硅片、石英晶片、機械五金件等零件的清洗。本機經(jīng)濟實用，性能可靠，維護方便。

全自動陶瓷盤式超聲波清洗機本機用于藍(lán)寶石外延片生產(chǎn)中所用陶瓷盤的清洗，主要去處陶瓷盤上的膠質(zhì)、附著物等。全自動控制，也可手動控制，節(jié)約人力，清洗效果好，是廣電生產(chǎn)企業(yè)的*生產(chǎn)設(shè)備。

MESA/SC晶片清洗設(shè)備該機清洗程序為酸洗、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指標(biāo)及可靠性*達(dá)到進(jìn)口同類設(shè)備水平。采用進(jìn)口PP板制作。 適用MESA*SC晶片清洗。 超聲功率強勁，性能穩(wěn)定。 采用進(jìn)口超聲波電源。

硅片擴散超聲波清洗機該設(shè)備用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產(chǎn)前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇，清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗（HF）、純水清洗。該設(shè)備用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產(chǎn)前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇，清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗（HF）、純水清洗。其工藝性能指標(biāo)及可靠性*達(dá)到進(jìn)口同類設(shè)備水平，但價格、售后服務(wù)、備品備件的供給

LCS系列立式旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機本機是主要應(yīng)用于太陽能電池和半導(dǎo)體硅片等的沖洗甩干工藝環(huán)節(jié)，具有容量大、效率高的特點。

全自動硅片（晶片）超聲波清洗機是用于清洗石英晶片、夾具、硅片、藍(lán)寶石片、光學(xué)晶片等器件，環(huán)形結(jié)構(gòu)設(shè)計，全自動流程，采用觸摸屏PLC控制，操作簡便，可以節(jié)省大量人力，節(jié)約成本，給企業(yè)帶來可觀的效益